本文標題："在抽真空的真空系統(tǒng)內(nèi)離子轟擊與加熱實驗"

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在抽真空的真空系統(tǒng)內(nèi)離子轟擊與加熱實驗

    離子轟擊與加熱 將試樣放在抽真空的真空系統(tǒng)內(nèi)，在低壓
(常為10托)下烘烤，將隋性氣體，常常是氬送入真空系統(tǒng)，使
得真空系統(tǒng)的壓力上升到10-3--10-4托。而后，離子以幾百伏的
加速電壓和密度為10-100微安/平方厘米的離子流轟擊試樣。
    轟擊的結(jié)果是晶格也出現(xiàn)損傷，晶格原子脫位，氬離子與表面
相互作用。因而此法的另一組成部分是高溫退火，目的為放出氬，
消除晶體缺陷。
    該處理的凈化結(jié)果是去掉表面的幾個原子層，使呈現(xiàn)出新鮮、
干凈的表面層。電子衍射發(fā)現(xiàn)，這種表面覆蓋單層的外來原子不
到5%。熔點低到600℃的材料采用這種凈化方法是成功的。

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